パルスＹＡＧレーザ用ビームホモジナイザー
高出力パルスＹＡＧレーザの均一照射
深い焦点深度<5mm
平坦性を維持したままビームサイズの拡大縮小が可能
>1J/pulseクラスの強いパルスエネルギーはファイバーレーザにはないＹＡＧレーザならではの長所ですが、空間的にマルチモードが混在し強度分布が不均一かつ変動し、材料を広範囲に均一照射することが出来ないという欠点がありました。しかし、アウレアワークスのＹＡＧレーザ用ホモジナイザーを使用すれば、不均一な強度分布を均一にし、強いパルスエネルギーでシリコン等の高反射材料を高いスループットでアニールすることが可能です。
アウレアワークスでは、ホモジナイザーで均一化した光強度分布をビーム掃引手段によって材料の加熱温度を最適化し、高品質のアニールを実現させます。
特徴
- >1J/pulseクラスの高出力パルスYAGレーザに対応
- 266nm, 355nm, 532nm, 1064nmに対応可能
- 低い光学損失（15%以下）
- 長方形や六角形にも整形可
- 長焦点距離 100mm~350mm
- 深い焦点震度<5mm
- 対物レンズを交換することにより、平坦性を損なわずにビームサイズを拡大縮小することが可能（オプション）
仕様
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光源 |
高出力パルスＹＡＧレーザ |
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均一性 |
±5%～±10% |
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光損失 |
15% |
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ビームサイズ |
2.5mm x 2.5mm~20mm x 20mm |
| 焦点距離 | 100mm~350mm |
| 焦点深度 |
<5.0mm |
| 対応波長 |
266nm 355nm 532nm 1064nm |
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ビーム形状 |
円形、正方形、長方形、六角形 |